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工信部官宣！我國正式突破7nm光刻技術
來源: | 作者:上海雋思半導體設備部 | 發(fā)布時間: 2024-09-20 | 835 次瀏覽 | 分享到:

      近日，  工業(yè)和信息化部正式發(fā)布了《首臺(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》（以下簡稱《指導目錄》），這一舉措旨在推動我國重大技術裝備的創(chuàng)新發(fā)展和推廣應用，同時加強產(chǎn)業(yè)、財政、金融、科技等國家支持政策的協(xié)同效應。

值得注意的是，《指導目錄》中提到的氟化氬光刻機，代表了當前全球半導體制造領域的尖端技術。光刻機被譽為"芯片之母"，是集成電路制造中最為關鍵的設備之一。能夠生產(chǎn)出如此高精度的光刻機，意味著我國在半導體制造裝備領域已經(jīng)取得了重大突破，為未來實現(xiàn)高端芯片的自主可控奠定了堅實基礎。

這一目錄的發(fā)布，不僅僅是一份簡單的技術指標清單，更體現(xiàn)了我國在高端制造業(yè)領域的戰(zhàn)略布局。通過鼓勵和支持首臺(套)重大技術裝備的研發(fā)和應用，我國旨在加速關鍵核心技術的突破，推動產(chǎn)業(yè)鏈向高端化、智能化方向發(fā)展，最終實現(xiàn)制造強國的宏偉目標。