就
是
對
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個(gè)產(chǎn)品，
做到極致認(rèn)真
致
每一組數(shù)據(jù)
-
智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級無塵烘箱
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氮?dú)夂嫦?，精密充氮烘?/div>LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）真空無氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱精密烤膠臺，高精度烘膠機(jī)超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱
產(chǎn) 品 中 心
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桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱使用工藝
光刻--就是將掩膜版上的幾何圖形轉(zhuǎn)移到涂有一層光刻膠的晶圓表面的工藝過程。典型的光刻全過程為:
晶圓表面預(yù)處理一涂膠(去邊)一前烘一 (對位) 曝光一PEB 烘一顯影一后烘一顯檢(測量)
以上步驟中的第一步表面預(yù)處理就是涂膠前要進(jìn)行增粘處理（可利用親水/疏水理論對其進(jìn)行解釋。由于襯底表面吸水特性，使疏水的光刻膠無法與親水的晶圓表面結(jié)合良好。未經(jīng)過HMDS表面處理的晶圓在后道工藝中容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。通常的方法是使用氣相沉積的方法改變表面特性，一般采用HMDS涂布方法改變晶圓表面的親水性，從而增大晶圓表面的接觸角），增強(qiáng)光刻膠和晶圓的粘附力。
桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱涂布方法
JS-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布HMDS化合物。HMDS烘箱在高溫條件下，達(dá)到真空狀態(tài)后開始涂布工藝，涂布完成后烘箱內(nèi)部充入N2，達(dá)到常壓后方可開門。
溫度范圍：RT+10-250℃
真空度：≤1torr
控制儀表：人機(jī)界面，一鍵運(yùn)行
儲液瓶：HMDS儲液量1000ml
真空泵：無油渦旋真空泵
數(shù)據(jù)處理：多個(gè)工藝方案，可修改并記錄，使用數(shù)據(jù)可記錄
保護(hù)裝置： 低液位報(bào)警，HMDS藥液泄漏報(bào)&警，超溫保護(hù)并斷開加熱，超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過熱保護(hù)等
桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱增粘處理的注意事項(xiàng):
1)預(yù)處理完的硅片應(yīng)在一定的時(shí)間內(nèi)盡快涂膠，以免表面吸附空氣中的水分，降低增粘效果。但同時(shí)也要充分冷卻，因硅片的溫度對膠厚有很大的影響;
2)反復(fù)預(yù)處理反而會降低增粘效果;
3)HMDS 的瓶蓋打開后，其壽命有限。
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